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黄仁勋:Blackwell设计确有缺陷,现已修复,感

发表于:2024-10-30 17:13:37 浏览:31次 发布者: 网易IT

10月24日消息,美国当地时间周三,英伟达首席执行官黄仁勋表示,在长期制造合作伙伴台积电的支持下,英伟达已成功修复了其Blackwell AI芯片的设计缺陷,该缺陷此前曾对生产造成了影响。

即便如此,这家人工智能芯片巨头的股价在早盘交易中仍下跌了约2%。

英伟达于3月推出了Blackwell芯片,并宣布计划在第二季度进行发货,但随后遭遇了发货推迟的情况,这可能对包括Meta、谷歌母公司Alphabet和微软等客户产生了一定影响。

黄仁勋承认:“Blackwell确实存在设计缺陷。虽然它是能够正常运作的,但设计上的不足导致了成品率偏低。这完全是英伟达的责任。”

之前有传言称,生产延迟导致了英伟达与台积电之间出现紧张关系,但黄仁勋对此进行了澄清,称这些报道为“假新闻”。

他进一步说明:“为了让Blackwell正常工作,我们从头开始设计了七种不同类型的芯片,并且必须同时投入生产。台积电在此过程中发挥了关键作用,帮助我们克服了产量上的困难,并以极快的速度重新加速了Blackwell的生产。”

英伟达Blackwell芯片采用了两倍于该公司以往产品大小的硅片,并将两片结合为一个组件,因此在执行诸如为聊天机器人提供答案的任务时,性能提升了30倍。

在最近高盛举行的投资会议上,黄仁勋透露,这些芯片预计将在第四季度发货。

此外,黄仁勋周三还在丹麦发布了名为Gefion的新型超级计算机,该计算机拥有1528个GPU(图形处理单元),是英伟达与诺和诺德基金会(Novo Nordisk Foundation)、丹麦出口和投资基金共同合作建造的。(小小)

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